設備簡述
ZY-1110大弧離子鍍膜機是我公司自主研發(fā)的超硬膜離子鍍膜機，采用獨有的新型過濾弧源鍍膜技術、等離子體增強陽極輔助鍍膜技術，規(guī)劃了爐體內等離子體的路線和分布，增強了刻蝕效果，提高了離化率，使得靶材表面被均勻刻蝕，涂層表面更光滑致密，提升了涂層的結合力，確保了涂層厚度及涂層的均勻性。同時，新技術的應用提高了鍍膜效率，節(jié)約了能耗和運行成本。
設備參數
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爐體尺寸 |
Ф1180XH1050 |
有效空間 |
Ф800XH650 |
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應用技術 |
IET+ BIG ARC |
靶材數量 |
IET2+ARC9 xφ160 |
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標準涂層 |
TiN, CrN, AlCrN, etc. |
其他復合涂層 |
TiAlCrN, TiSiN,TiAlCN,etc. |
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生產周期 |
4-6小時/爐 |
外圍尺寸 |
L5800XW2100XH2100mm L4800XW3000XH2100 |
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使用范圍 |
適用于滾刀，鉆頭，棒狀銑刀，微鉆，刀粒等。 |
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應用
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中文 
